アーク式イオンプレーティング装置







チャンバー | SUS304+電解処理+純水洗浄 |
プラズマ | HCDガン高密度アルゴンイオン |
ワーク | 自公転型 |
処理重量 | 150kg |
処理温度 | 400℃~500℃ |
処理膜 | TiN,TiAlN |
機器仕様 | GV:フジテクノロジーTMP:大阪真空 RP:エドワーズ MFCエステック |
施工範囲 | 機械設計、購入、製作、組立、調整 |
納入実績 | 10台 |
チャンバー | SUS304+電解処理+純水洗浄 |
プラズマ | HCDガン高密度アルゴンイオン |
ワーク | 自公転型 |
処理重量 | 150kg |
処理温度 | 400℃~500℃ |
処理膜 | TiN,TiAlN |
機器仕様 | GV:フジテクノロジーTMP:大阪真空 RP:エドワーズ MFCエステック |
施工範囲 | 機械設計、購入、製作、組立、調整 |
納入実績 | 10台 |