MO-CVD装置

装置寸法​	6700×2000×2500
処理数	４インチ×20
加熱方式	高周波誘導加熱
チャンバー材質	石英
原料数	8
真空ポンプ	DP：EBARA TMP,RP：大阪真空
制御方式	PLC+タッチパネル+PC GUI
施工範囲	設計製作１式
製作実績数	１台