アーク式イオンプレーティング装置







| チャンバー | SUS304+電解処理+純水洗浄 |
| プラズマ | HCDガン高密度アルゴンイオン |
| ワーク | 自公転型 |
| 処理重量 | 150kg |
| 処理温度 | 400℃~500℃ |
| 処理膜 | TiN,TiAlN |
| 機器仕様 | GV:フジテクノロジーTMP:大阪真空 RP:エドワーズ MFCエステック |
| 施工範囲 | 機械設計、購入、製作、組立、調整 |
| 納入実績 | 10台 |







| チャンバー | SUS304+電解処理+純水洗浄 |
| プラズマ | HCDガン高密度アルゴンイオン |
| ワーク | 自公転型 |
| 処理重量 | 150kg |
| 処理温度 | 400℃~500℃ |
| 処理膜 | TiN,TiAlN |
| 機器仕様 | GV:フジテクノロジーTMP:大阪真空 RP:エドワーズ MFCエステック |
| 施工範囲 | 機械設計、購入、製作、組立、調整 |
| 納入実績 | 10台 |